378-726DC 378-727DC明暗視場BD用電動轉塔

明視場(BF)用電動轉塔
明暗視場(BD)用電動轉塔

 378-726DC 378-727DC明暗視場BD用電動轉塔

明視場(BF)用電動轉塔多可安裝5個物鏡(帶調心機構)，明暗視場(BD)用
電動轉塔多可安裝4個物鏡

 圖片：在WIDE VMU上安裝的示例
(物鏡為選件)

Mitutoyo三豐顯微鏡單元
日本三豐物鏡(紫外、近紫外、可視、近紅外)
用于半導體、電子、液晶相關等產品的生產
品質管理系統、實驗研究裝置使用的光學系統
外觀檢查系統的嵌入式光學單元
微生物等運動物體的觀察 等

可安裝數碼相機，通過外部顯示器進行觀察和拍攝。
可實現橫向水平、上下顛倒等高自由度的固定方法。
與簡易支架一起使用，還可作為緊湊型顯微鏡使用。
★金屬、樹脂、印刷面等表面觀察拍攝
★微量流體分析用光學系統
★以觀察和分析細胞、微生物等為目的的光學系統

M Plan Apo NIR系列等支持紅外區的物鏡組合，可在紅外線下實
現可見光下做不到的非破壞性檢查。
★液晶薄膜、硅基板等的厚度測量
★MEMS內部的非破壞評價、三維安裝評價
★半導體封裝(IC)的內部觀察、晶圓鍵合空洞評價傳感器
★紅外分光特性分析

通過VMU-LB和固定倍率觀察用相機卡口的
組合，能夠對同一位置以不同倍率同時觀
察。
(低倍率側：2/3型、高倍率側：1/2型等)

通過與YAG激光(1064nm、532nm、355nm、266nm)物鏡組合，可實現高精度、高
品質加工。
與簡易支架一起使用，還可作為緊湊型顯微鏡使用。
保護膜、有機薄膜等的剝離
金、鋁等金屬配線切割、下層圖案的外露
FPD的各種缺陷修正
光掩模修正
標記、修剪、圖像形成、局部退火、劃線

憑借長動作距離設計的物鏡，實現優異的操作性。
與定位器、探針臺等組合。
通過與激光加工裝置組合，還可支持不良分析→部分修正無縫銜接的系統。
此外，還提供支持隔著玻璃的、真空內的外觀檢查的系統

觀察方法明視場觀察明暗視場觀察
物鏡安裝孔數5(基準孔1、帶調心機構孔4) 4(固定孔)
視場調節范圍±0.5mm －
定位精度
(重復停止精度) 2σ＝3μm －
驅動壽命(耐久性) 100萬個位置－
驅動方式DC電機－
輸入電源AC100V～240V
大功耗 約10W
AC100V～240V
大功耗 約6W
外部輸入輸出接口※ RS-232C(用于使用計算機進行外部控制)
附帶電纜長度2.9m(連接電動轉塔部和控制箱)
外觀尺寸：W×H×D(mm)、
重量
主體部分：130×47×186、
約1.8kg
控制箱：108×63×176、約
810g
主體部分：164×65×137、
約1.8kg
控制箱：108×72×193、約
810g
適用機型WIDE VMU-V
WIDE VMU-H
WIDE VMU-BDV
WIDE VMU-BDH
※連接時請使用【RS-232C 電纜(12AAA807)】