Mitutoyo三豐明視場物鏡378-845-7

明暗視場用物鏡
BD Plan Apo /
BD Plan Apo HR
FS70 MF-U Hyper MF-U

 BD Plan Apo HR
BD Plan Apo HR 50× 378-845-7 0.75 5.2 4 0.4 0.49 0.48 0.10×0.13 530
BD Plan Apo HR 100× 378-846-7 0.90 1.3 2 0.3 0.34 0.24 0.05×0.06 545

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NA=Numerical Aperture的略語
數值孔徑NA是決定物鏡分辨力、焦深、圖像亮度的重要數值。
數值孔徑NA通過下列公式來表示，其數值越大，就越能得到高分辨力、焦深淺的圖像
n是物鏡頂端與工件之間的媒介具有的屈光率，在空氣中n=1.0。是通過物鏡外側的光線與鏡頭中心（光軸）之間形成的角度
R=Resolving power的略語
能夠將離得很近的點或線區分開來的小間隔叫做分辨力，表示解像度的極限。
分辨力(R)由數值孔徑NA和波長(λ)來決定
W.D.=Working Distance的略語
是指對準焦點時從試樣上表面到物鏡前端的距離
齊焦距離
是指對準焦點時，從試樣上表面到物鏡安裝位置的距離

無限遠校正光學系統
把使用物鏡和成像鏡頭成像的光學系統叫做無限遠校正光學系統

有限遠校正光學系統
單獨用物鏡成像于有限的位置上的光學系統叫做有限遠校正光學系統
f=focal length的略語
主點到焦點的距離。f1是物鏡的焦點距離，f2是成像鏡頭的焦距。由物鏡與成像鏡頭的焦距比決定倍率（無限遠校正光學系統）
焦點
光學系統中相對于無限遠物點的共軛點。
物方空間中有無限遠物點的焦點叫做像方焦點。像方空間中有無限遠物點的焦點叫做物方焦點。
物方焦點也叫前聚焦點，像方焦點也叫后聚焦點
焦深

 
緊湊、輕巧的相機觀察顯微鏡
適用于金屬、樹脂、印刷表面、微小運動物體等各種觀察對象。
·適用于使用YAG激光(近紅外、可見、近紫外、紫外)的微細加工※ ※不保證激光振蕩器配備系統的綜合性能和安全性。
半導體電路的切割、修整、修正、打標、薄膜(絕緣膜)的去除和加工、液晶彩色濾光片等的修復(修正缺陷)等。
·適用于紅外光學系統※
硅類的內部觀察、紅外光譜特征分析等。※另需紅外光源和紅外攝像機等。
·反射照明光學系統標配帶孔徑光闌遠心照明
需要均勻照明的圖像處理。可用于尺寸測量、形狀檢查、定位等。
·VMU-LB和VMU-L4B強化了顯微鏡主體的剛性和綜合性能(與以往產品相比)
·除標準規格外，還可按照需求設計制作雙相機、雙倍率(低倍率、高倍率)等產品

Mitutoyo三豐明視場物鏡378-845-7